Установка нанесения и задубливания фоторезиста УНФ.1М
|
Установка предназначена для нанесения и сушки фоторезиста и других полимерных материалов. Модули нанесения и сушки смонтированы на единой столешнице и имеют независимое управление.
Рабочая зона
Модуль нанесения снабжен автоматической крышкой, которая закрывает чашу в процессе центрифугирования и создает атмосферу насыщенную парами растворителя. Данный функционал позволяет получить более однородный слой фоторезиста. Кроме того, модуль может быть дополнительно укомплектован системой удаления краевого валика и системой промывки обратной стороны пластины.
Для дозирования фоторезистов и других материалов модуль нанесения может оснащаться различными видами линий дозирования:
- Автоматический шприцевой дозатор с объемом шприца 30 мл
- Система дозирования из бутыли 1 л под давлением
- Система дозирования вязких жидкостей на основе моторизированного шприца или насоса
Модуль сушки оснащен нагревательной поверхностью из анодированного алюминия. Для удобства загрузки пластин имеются загрузочные штыри, проходящие сквозь нагреватель. Опционально модуль может быть оснащен системой напуска азота или праймера ГМДС под крышку.
Простота в использовании и обслуживании, быстрая переналадка на новый технологический процесс делают данную установку оптимальной для использования в условиях мелкосерийного производства, научно-исследовательских институтов и лабораторий
Технические характеристики: | |
Общие |
|
Диаметр обрабатываемых пластин/подложек, не более, мм | 200 |
Блок обеспыливания | Опционально |
Автоматическое подъемное стекло для защиты оператора | Наличие |
Давление сжатого воздуха, не менее, МПа | 0,5 |
Диаметр трубки подвода сжатого воздуха, мм | 8 |
Давление азота, не менее, МПа | 0,2 |
Диаметр трубки подвода азота, мм | 8 |
Диаметр патрубка для подключения вытяжной вентиляции, мм | 75 |
Напряжение питания, В | 220 |
с частотой тока, Гц | 50 |
Потребляемая мощность, не более, кВт | 1,2 |
Габаритные размеру установки, не более, мм | 1200х750х1775 |
Вес установки, не более, кг | 235 |
Модуль нанесения фоторезиста | |
| Материал рабочей чаши | Полипропилен/ |
| Фиксация пластины/подложки на столе | Механическая/ |
| Скорость вращения пластины, об/мин | 6 000 |
| Задание ускорения вращения в каждом сегменте | Наличие |
| Возможность выбора направления вращения | Наличие |
| Количество линий дозирования, не более, шт. | 4 |
| Система удаления краевого валика | Опционально |
| Система промывки обратной стороны пластины | Опционально |
| Емкость для сбора фоторезиста с датчиком переполнения | Наличие |
| Количество рецептов, хранимых в памяти контроллера, шт. | 50 |
| Количество сегментов в каждом рецепте, шт. | 24 |
| Модуль сушки фоторезиста | |
| Возможность сушки на вакуумном прижиме | Наличие |
| Возможность сушки на контролируемом зазоре | Наличие |
| Зона нагрева, не менее, мм | 240х240 |
| Материал зоны нагрева | Анодированный алюминий |
| Диапазон рабочих температур, °С | 25 – 250 |
| Скорость нагрева, не более, °С/мин | 10 |
| Скорость охлажденияне более,°С/мин (при установке опции охлаждения) | 5 |
| Точность поддержания температуры, не хуже, °С | 1,0 |
| Крышка с пневмоприводом | Наличие |
| Напуск азота под крышку | Опционально |
| Подача праймера ГМДС под крышку | Опционально |
| Количество рецептов, хранимых в памяти контроллера, шт. | 10 |
| Количество сегментов в каждом рецепте, шт. | 24 |
