Установка спреевого нанесения фоторезиста LSC
|
|
Установка предназначена для нанесения фоторезиста фоторезиста на пластины/подложки методом распыления или центрифугирования.
Метод распыления позволяет получить равномерное покрытие фоторезиста на пластинах/подложках с высокой топологией. Равномерность достигается за счет следующих факторов:
- Ультразвуковая форсунка позволяет получить атомизированную струю с размером капли порядка 10 мкм (в зависимости от вязкости используемого фоторезиста)
- Точная регулировка расхода фоторезиста на форсунку
- Постоянство скорости перемещения форсунки относительно поверхности пластины за счет ее движения по траектории «меандр»
Для получения толстых многослойных покрытий установка оснащена вакуумным поворотным столом с подогревом. Нагрев стола позволяет подсушивать нанесенный слой фоторезиста перед нанесением нового слоя.
Технические характеристики: |
|
Размер обрабатываемых пластин, не более, мм | 200 |
Материал рабочей чаши | Нержавеющая сталь |
Фиксация пластины на столе | Вакуумная |
Расход фоторезиста, мл/мин | от 1 до 5 |
Максимальный объем наносимого фоторезиста, не более, мл | 50 |
Скорость перемещения форсунки, мм/с | от 1 до 450 |
Диапазон температур нагревательного стола, °С | от комнатной до 80 |
Автоматическое подъемное стекло для защиты оператора | Наличие |
Количество рецептов, хранимых в памяти контроллера, шт. | 50 |
Количество сегментов в каждом рецепте, шт. | 24 |
Давление сжатого воздуха, не менее, МПа | 0,5 |
Диаметр трубки подвода сжатого воздуха, мм | 10 |
Давление азота, не менее, МПа | 0,2 |
Диаметр трубки подвода азота, мм | 8 |
Производительность вытяжной вентиляции, не менее, куб.м/ч | 250 |
Диаметр гофры для подключения вытяжной вентиляции, мм | 125 |
Напряжение питания, В | 220 |
с частотой тока, Гц | 50 |
Потребляемая мощность, не более, кВт | 2 |
Габаритные размеры, не более, мм | 850х750х1800 |
Вес, не более, кг | 250 |